純化水設(shè)備的日常清洗要求
???【杭州純化水設(shè)備http://hbcxkj.cn】純水設(shè)備的作用是應(yīng)用在各種超純材料、試劑、實驗室、生物實驗、電子產(chǎn)品、生產(chǎn)和清洗等方面,可以說,目前大多數(shù)工業(yè)都需要凈水設(shè)備,有些特殊工業(yè)還會使用超純水、無菌水等,這些水質(zhì)都是通過純水設(shè)備來達到的。那么純水設(shè)備的清洗有哪些要求呢?
有明確的清洗方法及清洗周期;
明確關(guān)鍵設(shè)備的清洗和驗證方法;
清洗工藝和清洗后檢查的有關(guān)數(shù)據(jù)應(yīng)作記錄并保存。
無菌設(shè)備的清潔,特別是與藥物直接接觸的部位和部件,必須消毒,并注明消毒日期,必要時進行微生物檢驗。消毒設(shè)備應(yīng)在三日內(nèi)使用。
某些活動設(shè)備可以移至清潔區(qū)域進行清洗、消毒和滅菌。
同一臺純水設(shè)備設(shè)備連續(xù)加工同一種無菌產(chǎn)品時,每批間應(yīng)清洗消毒;同一臺設(shè)備加工同一批非滅菌產(chǎn)品時,至少每周或每三批生產(chǎn)后,應(yīng)進行全面清洗。凈化水的標準電阻率:≥0.5MΩ.CM,電導率:≤2μS,氨氮濃度≤0.3μg/ml,硝酸鹽濃度≤0.06μg/ml,重金屬濃度≤0.5μg/ml。純水設(shè)備,實驗室純水設(shè)備。杭州純化水設(shè)備,杭州GMP純化水設(shè)備。 半導體純水設(shè)備。
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