純水設備中如何延長RO反滲透設備使用壽命？
延長設備使用壽命的方法
首先，RO反滲透設備的總進水量(即產(chǎn)水和濃水之和)由RO進水調(diào)節(jié)閥來控制，如果反滲透設備進水量沒有變化，則不要亂動RO進水調(diào)節(jié)閥，嚴禁全開或全閉。
RO濃排調(diào)節(jié)閥用來調(diào)整系統(tǒng)回收率，如回收率沒有變化，則不要亂動濃排調(diào)節(jié)閥，禁止全開或全閉，當RO反滲透設備裝置發(fā)生高低壓報警時，先檢查保安過濾器至高壓泵這間的手動閥開度是否太小，然后檢查RO進水調(diào)節(jié)閥及濃排閥是否正常，再按高低壓報警復位按鈕，重新啟動RO反滲透設備。
其次，嚴格控制進水水質(zhì)，保障裝置在符合進水指標要求的水質(zhì)條件下進行，操作壓力控制，應在滿足產(chǎn)水量與水質(zhì)的前提下，取盡量低的壓力值，這樣有利于降低膜的水通量衰減，減少膜的更換率，實驗室純水設備進水溫度控制，應根據(jù)實際用水量，取臨界壓力(進水壓力低于該值脫鹽率產(chǎn)生明顯下降的壓力值)不能滿足產(chǎn)水螄與水質(zhì)要求的較低溫度來作為該時間段內(nèi)的進水溫度，這樣可以降低膜水量的衰減。
此外，RO反滲透設備排放量控制，由于水溫、操作壓力等因素的變化，使裝置的產(chǎn)水量也發(fā)生相應的變化，這時應對排放量進行調(diào)整，否則將影響裝置的脫鹽率，裝置不得長時間停運，每天于少運行2小時，如準備停機72小時以上，應用化學清洗裝置向組件內(nèi)充裝1%嚴硫酸氫納和18%甘油實施保護，RO反滲透設備裝置每次停機和啟動都應讓裝置在進水壓力小0.4MPA條件下沖洗10分鐘。
反滲透設備的維護技巧
一、定期檢查、及時更換精密過濾器濾芯，防止濾芯因安裝或質(zhì)量問題發(fā)生泄露所引起的反滲透設備反滲透膜的顆粒污染。
二、反滲透設備機械過濾器定期反洗。反洗時進行壓縮空氣氣體摩擦，反洗合格后靜置10min左右再正洗，正洗出水合格后方可投入使用，勿將空氣帶入反滲透膜。
三、高壓泵入口壓力應至少大于0.05MPa，防止空氣或精密過濾器前截留物被高壓泵抽入反滲透設備 反滲透膜。為確保反滲透設備 長期、安全、穩(wěn)定地運行，要做好反滲透設備 的管理工作，及時發(fā)現(xiàn)運行參數(shù)的變化并調(diào)整設備運行工況。
四、定期對反滲透設備產(chǎn)水水質(zhì)進行化驗分析，根據(jù)實際情況及時調(diào)整絮凝劑、殺生劑、還原劑及阻垢劑的加藥量。
五、當與初始投用狀態(tài)相比，標準化的反滲透設備反滲透裝置產(chǎn)水量下降10，或在特定條件下產(chǎn)水含鹽量明顯上升，或壓差增加了15時，應對反滲透膜進行及時清洗。
六、停用的反滲透設備反滲透膜應定期低壓沖洗，尤其夏天，應做到每班沖洗一次。如停運時間大于7天，實驗室純水設備應采用0.5～1的亞硫酸氫鈉或0.5～1的甲醛溶液對反滲透設備 反滲透膜進行保護。并應及時檢測保護液的pH值和濃度。
七、應該及時調(diào)整濃水量，保持回收率75左右，應既不能使?jié)馑形⑷茺}濃度超過溶度積而結垢，又不應浪費水，即應達到經(jīng)濟運行狀態(tài)。
RO反滲透設備的運行注意事項
一、RO反滲透設備中反滲透膜的水解易造成反滲透裝置的性能惡化，為此，需要嚴格控制水的PH值，給水PH值在3-11范圍內(nèi)。若把FI值超標的水供給反滲透裝置作為給水，在膜組件的表面將附著污垢，這樣需要通過清洗來去除污垢。
二、當注入的次氯酸鈉量不足而使給水中的游離氯不能測出時，在反滲透裝置的膜組件上會有黏泥發(fā)生，反滲透裝置的壓差將增大。但對于聚酰胺膜來講，需要嚴格控制進入膜組件的游離氯量，超過規(guī)定值將導致膜的氧化分解。
三、過量的給水流量將使膜組件提前劣化，因此給水流量不能超過設計標準值。此外濃水的流量應盡量避免小于設計標準值，實驗室純水設備在濃水流量過小的條件下運轉，會使反滲透裝置的壓力容器內(nèi)發(fā)生不均勻的流動及由于過分濃縮而在膜組件上析出污垢。
四、RO反滲透設備中的高壓泵即使有極短的時間中斷運轉都可能使裝置發(fā)生故障。反滲透入口壓力要保持有適當?shù)脑６龋駝t由于沒有適當?shù)膲簩?，除鹽率會降低。反滲透裝置停止時應用低壓給水置換反滲透裝置內(nèi)的水。這是為了防止在停運時二氧化硅的析出(在冬季時水溫下降之故)。
五、需經(jīng)常注意RO反滲透設備過濾器的壓差。出現(xiàn)壓差急劇上升的原因主要是過濾器渾濁度的泄漏。相反，出現(xiàn)壓差急劇下降的原因是精密過濾器元件的破損，以及過濾器元件緊固螺絲松動等。純水設備，實驗室純水設備。杭州純化水設備，杭州GMP純化水設備。 半導體純水設備。
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